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紫外光催化氧化設(shè)備

簡要描述:

紫外光催化氧化設(shè)備設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

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紫外光催化氧化設(shè)備應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。

紫外光催化氧化設(shè)備原理

1、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。

2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-O*(活性氧)OO2→O3(臭氧),*臭氧對有機(jī)物具有*的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

特點(diǎn)
.1 高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,凈化、脫臭效率高可達(dá)99%以上,凈化、脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).
4.2 無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力,使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。,
4.3 適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理,可每天24小時連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
4.4 運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時,僅耗電約0.2度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
4.5 無需預(yù)處理:工業(yè)廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在30%-98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
 

 

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