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印刷廠UV光解凈化設(shè)備

簡要描述:

印刷廠UV光解凈化設(shè)備工藝流程:
  廢氣通過風(fēng)機(jī)輸送至裝置內(nèi),在裝置產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性物質(zhì)(臭氧)和紫外線及催化劑作用下,被迅速裂解,氧化,降解成低分子化合物,水和二氧化碳,降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在zui后的堿吸收化學(xué)塔中的被洗滌除去,實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。

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印刷廠UV光解凈化設(shè)備性能優(yōu)勢:

  1 除惡臭:能去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,凈化、脫臭效率較高可達(dá)99%以上,凈化、脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).
  2 無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力,使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
  3 適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理,可每天24小時連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
  4 運(yùn)行成本低:本設(shè)備
工藝流程:
  廢氣通過風(fēng)機(jī)輸送至裝置內(nèi),在裝置產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性物質(zhì)(臭氧)和紫外線及催化劑作用下,被迅速裂解,氧化,降解成低分子化合物,水和二氧化碳,降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在zui后的堿吸收化學(xué)塔中的被洗滌除去,實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。
無任何機(jī)械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時,僅耗電約0.2度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
  5 無需預(yù)處理:工業(yè)廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在30%-98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
  6 占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

印刷廠UV光解凈化設(shè)備適用范圍:

煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

工藝流程:
  廢氣通過風(fēng)機(jī)輸送至裝置內(nèi),在裝置產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性物質(zhì)(臭氧)和紫外線及催化劑作用下,被迅速裂解,氧化,降解成低分子化合物,水和二氧化碳,降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在zui后的堿吸收化學(xué)塔中的被洗滌除去,實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。


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