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紫外光UV光解除臭設備
紫外光UV光解除臭設備利用光學原理設計了*的裝置處理工藝,使空間內得以zui大限度地利用紫外線光催化反應,使殺菌效果成倍提高。納米光氫離子CHO91G凈化裝置。 無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,設備風阻低30pa,可節約大量排風動力能耗。
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橡膠廠紫外光催化氧化設備
橡膠廠紫外光催化氧化設備采用先進的氧化技術,突破單一體系的反應局限,在整個反應體系中,兩種氧化能力*的氧化劑-O3和·OH參與反應及185nm高能量紫外線直接裂解廢氣,使得脫臭效果更佳,惡臭氣體礦化程度更高,可無害化排放,無二次污染。
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防爆型紫外光廢氣處理設備
防爆型紫外光廢氣處理設備能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率zui高可達99%以上,脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。
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印染廠紫外光催化氧化設備
印染廠紫外光催化氧化設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設備能耗低,(每處理1000立方米/小時,僅耗電約0.2度電能),設備風阻極低<50pa,可節約大量排風動力能耗。
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